Optix Logo

Оптические кристаллы, лазерные субстраты и объективы для ИК области

Департмент производит линзы сферической и асферической формы поверхностей, а также и плоско-параллелные пластинки (зеркала и субстраты), работающие в ИК и УФ области.

Департмент оснащен последным поколением ЦПУ машин, производства Satisloh и Nanotech для фрезерования, поллирования, центрирования и алмазного точения (Diamond Turning) оптических деталей.

Контроль и протоколирование резултатов измерения осуществляется при помощи прецизной измерительной техники, производства Zygo и Mahr.

 

Производственные возможности

Асферични детайли с повърхности, обработени посредством диамантено струговане: Диаметър Ø10mm to Ø200mm; Точност на повърхността ΔN – 0,3; Грапавост (RMS) <3nm; Децентровка <30”; Качество на повърхността до Ø20mm / 20-10 > Ø20mm / 40-20; Възможност за изработка на дифрактивни повърхности
Плоско-паралелни пластини (огледала Si, Ge): Диаметър Ø10mm - Ø200mm; Успоредност до 3’; Точност на повърхността ΔN – до 0,2; Roughness (RMS) <1nm (0,7 до 0,9nm) За ZnS <3nm ; Surface form до Ø30mm / 20-10 Ø30mm - Ø60mm / 40-20 > Ø60mm / 60-40 За ZnS / 80-50
Детайли със сферични и асферични повърхности: Диаметър Ø10mm - Ø180mm (сферични) Ø20mm - Ø180mm (асферични); Точност на повърхността ΔN – до 0,2 (сферични) и до 2 (асферични); Грапавост (RMS) - <1nm (за ZnS <3nm); Децентровка - <30”; Чистота на повърхността Ø15mm / 20-10 Ø15mm до Ø60mm / 40-20 > Ø60mm / 60 за ZnS / 80-50
Субстрати (CaF2, MgF2): Диаметър Ø10mm - Ø50mm; Успоредност до 5”; Точност на повърхността ΔN –до 0,2; Грапавост (RMS) <1nm (0,5 до 0,7nm) за ZnS <3nm; Чистота на повърхността – 20-10